표면工學 [PVD]에 관련되어
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작성일 23-09-23 14:39
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4. PVD 영상
2. PVD 법
장 점
단 점
① 증착성의 조성에 있어서의 융통성
② 무정형과 같은 특별한 미세구조 의 증착층 형성가능
③ 기판온도를 넓은 범위에서 變化(변화)시킬 수 있음.
④ 높은 증착속도가 가능
⑤ 고순도의 증착층이 가능
⑥ 기판과의 우수한 밀착력
⑦ 우수한 표면조도
⑧ 환경오염물의 제거
① 몇몇 예외를 제외하고는 고분자물질의 증착이 불가능
② 장비가 복잡하고 초기투자 가격이 높음.
5. PVD 장.단점
2. PVD 법
3. PVD 종류
3. PVD 종류
PVD 종류
3. PVD 종류
2. 증발 ( 아크 증발법)
수 마이크론의 직경으로 형성된 아크에 의하여 금속 코팅 재료가 증발되는 것이 기본 원리
증발된 재료는 높은 전류 밀도 및 전력 밀도에 의하여 거의 대부분이 이온화된 상태이므로 높은 에너지를
가진 플라즈마를 형성
금속 이온들은 진공조에 유입된 가스와 反應하여 코팅하고자 하는 공구 또는 부품의 표면에 높은 에너지로
충돌하여 높은 밀착력의 박막을 형성
1 알곤
2 反應 가스 3 아크원 (코팅 재료)
4 코팅할 부품
5 진공 펌프
◆ 특징
고진공이 필요 (10-4~10-7 Torr)
진공도가 나쁘면 증발금속이
기판 표면에 도달못함.
잔류 공기와 만나 산화
3. 이온도금 ( 이온 주입법)
이온 주입법은 反應성 전자 빔 증발법으로 물리적 기상 증착법의 한 종류
이온 주입법은 저 전압 아크를 이용 하여 금속 코팅재료 (티
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레포트/공학기술
목 차
1. 서론
2. PVD법
2.1 PVD 란?2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
3.4.1 강화된 스퍼터링
4. PVD 장비
5. 진공의 당위성