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에칭한 다결정 웨이퍼 觀察(관찰)

페이지 정보

작성일 23-03-27 03:17

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설명
목적 : 에칭 시간이 다결정 웨이퍼에 미치는 influence을 조직 觀察(관찰) 을 통해 알아본다. 실험 보고서 양식을 모두 만족하는 레포트입니다.

순서
예시 )


test(실험) 보고서 양식을 모두 만족하는 레포트(report) 입니다. ☆★ 관찰 사진과 실험 과정 사진이 다수 첨부되어있습니다. ★☆
⇨ Etching할 때 집게로 잡았던 부분은 Etching이 잘 안 되었을 수 있으니 위치를 기억해두었다가 그 부분이 아닌 곳을 촬영하도록 한다.

레포트 > 공학,기술계열

Download : 에칭한 다결정 웨이퍼 관찰.hwp( 93 )



에칭, 다결정, 웨이퍼, Olympus CK-40M, etching, wafer

☆★ 觀察(관찰) 사진과 test(실험) 과정 사진이 다수 첨부되어있습니다.

에칭한 다결정 웨이퍼 관찰-6275_01.jpg 에칭한 다결정 웨이퍼 관찰-6275_02_.jpg 에칭한 다결정 웨이퍼 관찰-6275_03_.jpg 에칭한 다결정 웨이퍼 관찰-6275_04_.jpg 에칭한 다결정 웨이퍼 관찰-6275_05_.jpg






목적 : 에칭 시간이 다결정 웨이퍼에 미치는 영향을 조직 관찰을 통해 알아본다. ★☆








다.
에칭한 다결정 웨이퍼 觀察(관찰)
광학현미경(Olympus CK-40M)을 사용하여 표면처리한 Wafer의 조직을 watch하고, 표면처리하기 전 Wafer의 조직과 다른 점을 비교한다.
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